商业秘密与集成电路布图设计保护可以同时存在，形成互补保护关系：

双重保护的可行性：

1. 保护对象不同：布图设计保护的是设计的版图本身，商业秘密保护的是设计过程中形成的技术信息。

2. 权利内容不同：布图设计权是法定的专有权，商业秘密权是基于保密措施产生的权益。

3. 保护期限不同：布图设计保护期限10年，商业秘密无期限限制。

张泽生律师建议：集成电路企业应当建立完善的知识产权保护体系，对布图设计采取登记与商业秘密双重保护策略。