集成电路布图设计可以申请专门法保护，也可以选择商业秘密保护，各有利弊：

集成电路布图设计保护法：

1. 保护条件：需要向国家知识产权局申请登记。

2. 保护期限：10年。

3. 权利内容：复制权、商业利用权。

商业秘密保护：

1. 保护条件：需要采取合理的保密措施。

2. 保护期限：无限制。

3. 权利内容：禁止不正当获取和使用。

选择策略：

1. 容易通过产品分析获知的布图设计 → 申请专门保护

2. 复杂的内部设计和参数 → 选择商业秘密

3. 需要国际保护的 → 考虑《集成电路布图设计知识产权条约》

张泽生律师建议：集成电路企业应当根据布图设计的特性和商业策略，选择最优的保护方式，并注意保留研发记录和保密措施的证据。