技术方案同时存在商业秘密保护和专利授权的情况下，权利人可以获得双重保护，但需要注意以下问题：

双重保护的效力分析：

1. 专利权的独立性：专利授权后，专利权独立存在，不因商业秘密的存续状态而改变。

2. 商业秘密的持续性：只要技术方案未被公开，商业秘密保护就可以持续。

3. 权利竞合：在专利保护期内，权利人可以同时主张专利权和商业秘密权。

典型案例：在某技术秘密与专利权纠纷案中，法院认定，即使涉案技术方案已被授予专利权，但只要该技术方案的具体参数和工艺细节未被专利文件完整公开，权利人仍可以就未公开的部分主张商业秘密保护。

张泽生律师提醒：企业在申请专利时，应当评估是否需要保留部分技术内容作为商业秘密。如果专利文件公开了所有技术内容，则无法再就该部分主张商业秘密保护。